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关于PECVD真空系统的设计 [复制链接]

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发表于 2009-1-11 23:09:46 |显示全部楼层 |
大家好!
. g. R6 n/ c, q: T! u: a   向大家请教一个问题,我自己在设计一个PECVD系统,在设计真空系统的时候有点疑惑。反应条件是:试验系统主要是用于制备si薄膜,反应气体为硅烷,反应压强为10Pa左右;反应腔体的大小为50L。我知道有的PECVD是由机械泵和扩散泵为真空机组;但是这里的气体有腐蚀性,一般油封机械泵不太好,并且还容易污染真空腔;PECVD的反应压力好像也不需要用扩散泵。不知道结合我的具体情况应该选用什么真空泵比较实用。请大家给点建议,谢谢!比较急!

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发表于 2009-1-12 17:23:27 |显示全部楼层 |
建议你使用罗茨泵,如果是沉积功能膜,那么就要求很高的真空度,最好使用分子泵,前级用机械泵。

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发表于 2009-1-13 13:33:58 |显示全部楼层 |
看看离子泵
不断的学习

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发表于 2009-1-16 11:42:25 |显示全部楼层 |
原帖由 yxping01 于 2009-1-13 13:33 发表 , z; k% o- R5 B  q
看看离子泵

# p, ?/ a% b4 E# u5 o" y7 j& T离子泵?一通气就宕机了!同意二楼的意见,自已设计的系统要注意反应后产生的粉尘问题!# E/ w* j( m8 _2 i9 \; t
, W& d, W1 ~& G$ w2 K+ [
[ 本帖最后由 kqiu0821 于 2009-1-16 11:43 编辑 ]

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发表于 2009-4-20 18:05:52 |显示全部楼层 |
上次看到中科仪提供耐腐蚀的分子泵,应该可以用吧。

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发表于 2009-7-28 11:20:15 |显示全部楼层 |
你给我个邮箱吧,我给你一些资料

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发表于 2010-8-16 15:52:46 |显示全部楼层 |

有点复杂

还需仔细研究下

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发表于 2011-1-12 16:39:13 |显示全部楼层 |
PECVD工作压强2~10torr,分子泵肯定用不上
" Z) m2 D( L% O工作气体一般有腐蚀性,油泵用不上
' D- U1 G7 K- o一般是干泵+罗茨,干泵主要也是爪式、螺杆和多级罗茨三种,基本都是进口货
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