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五月天？ 2011-10-11 14:39:38
5月天空: 请教，WJ999 SIO2膜， 硅烷+O2工艺
问：  process N2,  PURGE N2的纯度要求分别是多少？
我司的N2纯度是5个9，O2含量为2.6ppm, MFC堵塞频繁
N2中的氧含量和水含量都要求小于1PPM，呵呵
xuqigao 2011-3-15 22:47:34
你好!
   能否告知台湾京科公司具体情况,我们有一台日本的TECHONS XRAY设备需要调试.谢谢
!
lin_liang 2010-8-21 10:48:02
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GMT+8, 2012-5-18 10:49

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